伯东企业(上海)有限公司
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公司介绍
伯东企业(上海)有限公司
伯东公司成立于1953 年,全球范围内有一千七百名员工。伯东企业(上海)有限公司(www.hakuto-vacuum.cn)主要从事半导体设备、电子零部件加工、销售及相关服务工作,集团年营业额约为100亿RMB。伯东公司在国内主要城市:北京、苏州、广州、深圳、成都及厦门设有营业据点。
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公司新闻
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上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 系列, 通过加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 离子源增强设计输出低电流高能量宽束型离子束, 通过同时的或连续的离子轰击表面使原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, 实现辅助镀膜 IBAD.
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上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 EH 系列, 提供高电流低能量宽束型离子束, KRi 霍尔离子源可以以纳米精度来处理薄膜及表面, 多种型号满足科研及工业, 半导体应用. 霍尔离子源高电流提高镀膜沉积速率, 低能量减少离子轰击损伤表面, 宽束设计提高吞吐量和覆盖沉积区. 整体易操作, 易维护, 安装于各类真空设备中, 例如 e-beam 电子束镀膜机, load lock, 溅射系统, 分子束外延, 脉冲激光沉积等, 实现 IBAD 辅助镀膜的工艺.
- 适用于光学镀膜机的离子源和真空系统
- KRi 射频离子源 RFICP 40 应用于氧化物薄膜及异质结制备系统
- KRi 射频离子源 RFICP 220 IBE 离子束刻蚀
- KRi 射频离子源 RFICP 100 应用于离子束溅射镀膜机 IBSD
- 离子束刻蚀机传感器 MEMS 刻蚀应用
- 上海伯东日本 NS 离子束刻蚀机 IBE
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